В первой половине 2024 года национальная индустрия строительных материалов работала в целом плавно, с общим повышением качества и эффективности, стабильным производством промышленности, быстрым ростом производства, небольшим восстановлением эксплуатационных цен на основные продукты, продолжение существенного роста экономических выгод и значительный годовой рост импорта и экспорта товаров. Согласно данным Национального бюро статистики, с января по июнь, выработка плоского стекла составила 510 миллионов весовых ящиков, годовалое увеличение на 10,8%; Экс-фактическая цена на фиксированную стеклянную промышленность увеличилась на 11,2% месяца на месяц и на 74,1% в годовом исчислении. Операционный доход крупномасштабной отрасли фиксированного стекла увеличился на 46,2% в годовом исчислении, а общая прибыль увеличилась на 155% в годовом исчислении. Видно, что спрос на стекло огромен.
При обработке в автономном стекле необходимо удалить слой пленки на краю стекла, что является требованием процесса до того, как стекло выпадают. Пленка слой стекла в основном металлическая пленка. Проблемы с производственным процессом приводят к легкому окислению в автономном стекле и не очень совместимым с клеем. Серебряная пленка очень легко отреагировать с другими веществами и стать черным, и она будет продолжать расширяться, включая кислоту, щелочную, слюну и пятна отта. Если он не будет удален, базовая поверхность герметика станет красной (аналогично цвету красной меди), а утечка и запотевание со временем произойдет. Следовательно, слой пленки, который может вступить в контакт с герметиком, должен быть удален.
1. необходимо заменить метод удаления и очистки традиционной пленки пленки
Традиционный метод удаления пленки использует машину для удаления пленки. На машине снятия пленки установлено колесо смоля, чтобы она вращалась на высокой скорости, чтобы потратить стеклянную поверхность, чтобы достичь эффекта удаления пленки. Поскольку колесо смоля находится в жестком контакте со стеклянной поверхностью, напряжение, создаваемое в точке контакта между колесом смолы и стеклом, может легко вызвать микротрещины на поверхности стекла, царапины или прямые хрупкие трещины. Следовательно, скорость лома во время обработки высока. В то же время микротрещины, полученные во время обработки, приведут к сбою всего стакана с течением времени, даже нарушаются и вызывают опасность безопасности. Автоматизированная система удаления пленки производственной линии использует трение для достижения эффективного удаления пленки, и глубина удаления связана с силой связывания. Оба метода требуют контакта со стеклом и полагаются на трение, чтобы удалить стеклянное покрытие. Легко вызвать чрезмерный стресс и вызвать разбитие стекла. Поэтому особенно важно заменить традиционный метод удаления пленки.
2. Стандарты очистки стеклянного покрытия
Стандарт для очистки стеклянного покрытия заключается в том, чтобы поместить белую бумагу под стекло и наблюдать, является ли очищенная область белой и не пожелтевшей, как показано на рисунке ниже.
3. Разработка технологий лазерной очистки
(1) Что такое лазерная чистка?
Этот процесс устраняет химические вещества и абразивы, предлагая точную чистку для металлов, культурных реликвий и электроники.
Это относится к процессу использования высокоэнергетических лазерных лучей для облучения поверхности заготовки, вызывая грязь, ржавчину или покрытие на поверхности, чтобы мгновенно испариваться или отремонтировать, и быстро и эффективно удалять поверхностные прикрепления или поверхностные покрытия чистящего объекта, тем самым достигая чистого процесса. Это новая технология, основанная на эффекте взаимодействия между лазером и веществом. В отличие от традиционной механической очистки, химической очистки и ультразвуковой очистки (процесс мокрого очистки), она не требует каких-либо органических растворителей CFC, которые повреждают слой озона, и без загрязнения, без шума и безвредны человеческому организму и окружающей среде. Это «зеленая» технология очистки.
(2) Каков принцип лазерной очистки?
Лазерная очистка представляет собой бесконтактную, экологичную технологию обработки поверхности, которая использует высокоинтенсивные импульсные лазерные балки для удаления загрязняющих веществ, оксидов или покрытий из субстратов. Его принцип включает в себя:
Селективное поглощение: Лазерная энергия преимущественно поглощается поверхностными загрязнениями (с более высоким коэффициентом поглощения), а не подложкой.
Быстрое преобразование энергии: Поглощенная энергия вызывает мгновенное нагревание, что приводит к испариванию, термическому разложению или образованию загрязняющих веществ загрязняющих плазмов.
Механический отряд: Различия в термическом расширении между загрязняющими веществами и субстратом генерируют ударные волны, механически изгнание частиц.
Сохранение субстрата: Базовый материал остается неповрежденным из -за контролируемых лазерных параметров (длина волны, продолжительность импульса, флюенс) соответствующие свойства материала.
(3) Как распределяется энергия для очистки лазерной очистки?
Когда плотность энергии выше порога абляции субстрата, субстрат легко поврежден, а определенная степень шероховатости может быть увеличена; Когда плотность энергии ниже порога абляции загрязняющих веществ, эффект очистки не может быть достигнут.
Гауссион луч
Луч
Квадратный верхний луч шляпы
Пиковая часть гауссового света может легко повредить субстрат. Типичные применения включают в себя удаление оксидных слоев алюминиевых сплавов, меди, железа и т. Д. Если вы не хотите повредить субстрат, например, очистка плесени, предпочтительнее плоское верхнее свет. Типичные применения включают очистку плесени, обезжиренные точные детали и удаление слоя краски. Чтобы повысить эффективность очистки без повреждения субстрата, предпочтительнее распределение квадратного плоского пятна.
4. Стеклянный корпус для очистки покрытия
Laser RFL-P3 0 0H представляет собой круговой мультимод-лазер с максимальной энергией с одним импульсом 15MJ. Диаметр пятна после фокусировки составляет приблизительно 0,36 мм, а коэффициент качества луча M2 составляет 10.
Лазерная стеклянная схема облучения
Изображение микроскопа лазерной очистки покрытия
Стеклянная одиночная серебряная пленка Параметры: 130NS, 300 Вт, 30 кГц, ширина линии 15 мм, скорость очистки 6 м\/мин, которые могут очистить поверхность покрытия и сделать поверхность прозрачной. В то же время горизонтальные и вертикальные пятна также могут быть перекрыты.
Параметры процесса теста показаны в следующей таблице:
Лазер RFL-P500H представляет собой круговой точечный мультимод-лазер с максимальной энергией для одного импульса 50 мд. Диаметр пятна после фокусировки составляет около 1 мм, а коэффициент качества луча M2 - 62,5.
Лазерное покрытое стеклянное изображение облучения
Лазерное покрытие слой очищающее микроскоп изображение
Стеклянная одиночная серебряная пленка Параметры: 100NS, 500 Вт, 15 кГц, ширина линии 15 мм, скорость очистки 8 м\/мин, которые могут очистить поверхность покрытия и сделать поверхность прозрачной. В то же время горизонтальные и вертикальные пятна также могут быть перекрыты.
Очистка покрытия на солнечной батареи
Требования к очистке: Чтобы встроить край в алюминиевую раму, ширина очистки должна быть 10 мм, а черное покрытие на обратной стороне удаляется с другой стороны. Стеклянный субстрат не должен быть поврежден. Эффективность составляет не менее 6 м\/мин, а цвет прозрачен после очистки.
Столпная панель
Из теста на рисунке выше, можно видеть, что эффективность очистки чистки покрытия солнечной панели с помощью P300H достигает 6 м\/мин. Результат после очистки является прозрачным, и эффект очистки соответствует требованиям к очистке.
