В соответствии с характеристиками материала подложки, точностью поверхности подложки, шероховатостью поверхности и типами загрязняющих частиц современные методы лазерной очистки можно разделить на следующие две категории.
1) Метод лазерной химической чистки. Лазер непосредственно облучает поверхность объекта, загрязняет частицы или поглощает энергию на поверхности, а затем заставляет частицы покидать поверхность за счет термодиффузии, фоторазложения и газификации.
2) Метод влажной лазерной очистки. Распылите небольшое количество незагрязненной жидкости (в основном воду, иногда спирт) на поверхность очищаемого материала, а затем облучайте его лазером. После поглощения энергии лазера жидкая среда будет производить взрывное испарение и отталкивать частицы загрязнения от поверхности материала. Кроме того, был предложен так называемый метод очистки лазером компаундом. Энергия лазера поглощается материалом подложки, а затем адсорбированная промежуточная среда нагревается за счет тепловой конвекции, и промежуточная среда вызывает взрывное испарение. Под действием сильного воздушного потока частицы отделяются от поверхности подложки вместе с промежуточной средой.
